广州稳定金相制样设备研磨机

金相制样通常包括取样、镶嵌、磨制、抛光、浸蚀等工作过程，需要一定的技术技能来支撑，才能制作出满足显微观察并准确反映出零件真实形态的合格的金相试样。从取样来说，要从检验的关注点出发，选择零件的重点部位采样，采样中应使用合适的方法，特别注意控制温度、样品大小等因素，保证样品的原有状态和为后续的处理提供方便；对很小的样品和形状很不规则的样品要进行镶嵌，以提高制备质量和样品保持在正确观察方向上；磨光是利用不同粒度的砂纸，把取样时表面留下的变形层减少到比较低程度甚至为零，并使试样表面平整，也为抛光奠定良好的基础；抛光是去除磨光时留下的磨痕，对已选定表面进行镜面化处理，提高试样表面的光反射性，抛光后的试样表面应是平整、光洁、干净的镜面；浸蚀是利用化学物质的腐蚀性使试样的内部组织能清晰的展示在显微镜下。整个金相制样过程需要有认真细致的工作态度和熟练过硬的技术技能。

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截取制样的部位，必须能表征材料或部件的特点及检验的目的。①对机件破裂的原因进行金相分析时，金相制样应在部件破裂部位截取。为了得到更多的资料，还需要在离开破裂源较远的部位截取参考制样，进行对照研究。②对于工艺过程或热处理不同的材料或部件，制样的截取部位也要相应地改变。③研究分析铸件的金相制样组织，必须从铸件的表层到中心同时观察。根据各部位组织的差异，从而了解铸件的偏析程度。小机件可直接截取垂直于模壁的横断面，大机件应在垂直于模壁的横断面上，从表层到中心截取几个制样。④轧制型材或锻件取样应考虑表层有无脱碳、折迭等缺陷，以及非金属夹杂物的鉴定，所以要在横向和纵向上截取制样。横向制样主要研究表层缺陷及非金属夹杂物的分布，对于很长的型材应在两端分别截取制样，以便比较夹杂物的偏析情况；纵向制样主要研究夹杂物的形状，鉴别夹杂物的类型，观察晶粒粒长的程度，估计逆性形变过程中冷变形的程度。⑤经过各种热处理的零件，显微组织是比较均匀的，因而只在任一截面上截取进行金相制样即可，同时要考虑到表层情况，如脱碳、渗碳、表面镀膜、氧化等。阳江完善金相制样设备实验室仪器双盘双控进口金相研磨机。

抛光的目的是除去金相制样设备磨面上由细磨留下的磨痕,成为平整无疵的镜面。抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量,故抛光之前应仔细检查磨面磨痕是否为单一方向且均匀,否则应重新磨光,以免白费时间。抛光通常在金相样品抛光机上洒以适量的抛光液后进行,转速一般在200～600r/min,粗抛时转速较高,精抛或抛软材料时转速较低。在抛光盘上蒙一层织物,粗抛时常用帆布、粗呢等,精抛时常用绒布、细呢金丝绒与丝绸等。抛光耗材抛光注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大,并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多,会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落,抛光面质量不佳；若抛光液太少,将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动,以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。尽量减少抛光面表层金属变形的可能性,整个抛光时间不宜过长,磨痕全部消除,出现镜面后,抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。

 为使制样达到既低成本又高质量的目的，所有制样的方法都经过***而细致的评定。制样过程中均使用MD系列的耗材，以确保能在短时间内达到重现性和平整性俱佳的理想制样效果，另外由于我们M系列的耗材带有磁性基地，因而其磨抛具有着易于使用的优点。

 我们设计了适用于所有材料的七种方法，采用这些方法均可获到比较好的制样效果。另外还有很多种快速方法可资利用，这些方法对大多数样品材料来说都是理想的使用方法，可以得到较为满足的制样结果。

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抛光:抛光的目的是除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量，故抛光之前应仔细检查磨面磨痕是否为单一方向且均匀，否则应重新磨光，以免白费时间。抛光时在金相样品抛光机上洒以适量的抛光液后进行，转速一般在200～600r/min，粗抛时转速较高，精抛或抛软材料时转速较低。在抛光盘上蒙一层织物，粗抛时常用帆布、粗呢等，精抛时常用绒布、细呢金丝绒与丝绸等。抛光注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个抛光时间不宜过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。金相制样切割机，质量的金相切割机代理商。广州稳定金相制样设备研磨机

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在所有制样方法中，金刚石是**常用的研磨料。制备软样品时，粗磨工序采用Sic，而且氧化物抛光时，则使用二氧化硅胶体，这样就能得到无划痕的抛光表面，研磨料的硬度必须是所制备样品的2.5倍-3倍。***不允许使用比所建议的研磨料软的研磨料，因为这样可能会导致制样假象。研磨料的用量要根据磨抛/抛用具及样品的硬度来定。用回复性差的抛光布制备样品所以用的量较大，是因为在这周情况下，研磨颗粒回更快的被磨耗掉。制样所使用的磨料应尽可能从**小的磨粒标号开始，以免对样品的额外损伤。广州稳定金相制样设备研磨机

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